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| Paramètre | Gamme Typique | Impact sur le processus |
|---|---|---|
| Diamètre du fil | 0,1 : 0,3 mm | Durée de vie du fil plus courte = moins de perte de saignée, tandis qu'un diamètre plus long = durée de vie du fil plus élevée |
| Taille du grain de diamant | 10 µm | Coupe plus lente = grain plus fin, finition de surface plus élevée |
| Concentration Diamant | 15-25% | Une concentration plus élevée entraîne une coupe plus rapide et un coût accru |
| Type d'obligation | Electroplated /Résine | Electroplated pour une coupe agressive, résine pour une finition fine |
| Paramètre | Gamme Recommandée | Impact primaire | compromis |
|---|---|---|---|
| Vitesse du fil | 10-25 m/s | Taux de coupe, qualité de surface | Vitesse plus élevée → plus de chaleur |
| Taux d'alimentation | 0,1-0,5 mm/min | Temps de cycle, profondeur SSD | Alimentation plus rapide → plus de dégâts |
| Tension du fil | 20-60 N | Coupez la rectitude, TTV | Tension plus élevée → usure du fil |
| Débit de liquide de refroidissement | 6-10 L/min | Contrôle de la température | Plus de flux → coût plus élevé |
| Température du liquide de refroidissement | 18-22°C | Stabilité thermique | Nécessite un système de refroidissement |
Optimisez vos paramètres de coupe de fil diamant pour une meilleure qualité et calculez la répartition détaillée du coût par tranche pour la production de tranches de carbure de silicium
Études de cas réelles démontrant la précision, le rendement et la rentabilité.
Le fournisseur allemand de niveau 1 automobile est l'un des plus grands fabricants de modules d'alimentation à base de SiC pour onduleurs de véhicules électriques Cette société, qui produit annuellement plus de 500 000 modules MOSFET SiC, est soumise à des contraintes financières en raison du gaspillage excessif de matières premières provenant de leurs opérations de tranchage de tranches Cette société exécute 3 lignes de production pour le traitement de tranches 4 H-SiC de 6 pouces pour les appareils d'alimentation 1200 V et 1700 V.
Avant le démarrage de ce projet, le système de scie à lisier multifilaire du client créait des pertes inacceptables :
Après avoir analysé les demandes de découpe du client, nous avons installé un Machine de découpe de scies à fil diamantées DWS-6000 avec des fonctionnalités personnalisées.
| Métrique | Avant | Après |
|---|---|---|
| Perte de Kerf | 220μm | 143μm (↓35%) |
| Plaquettes par lingot (25 mm) | 38 plaquettes | 52 plaquettes (↑37%) |
| Utilisation des matériaux | 52% | 71% (↑19 pts) |
| Dommages souterrains | 45-60μm | 15-25μm (↓58%) |
| Taux d'écaillage des bords | 8% | 1.2% (↓85%) |
Le client est l'un des 3 premiers fabricants d'onduleurs solaires en Chine, avec une capacité de production annuelle de plus de 50 GW Pour renforcer leur intégration verticale, ils ont mis en place une usine captive de fabrication de plaquettes de SiC. Il s'agit d'une stratégie axée sur la sécurité de la chaîne d'approvisionnement pour les MOSFET SiC utilisés dans les onduleurs de cordes à haut rendement L'usine travaille sur des tranches de 8 pouces 4 H-SiC destinées aux appareils 650 V et 1200 V destinés aux systèmes solaires à l'échelle des services publics.
Les difficultés rencontrées par le client comprenaient l'établissement d'une nouvelle opération de découpe de tranches SiC avec les exigences suivantes :
Notre recommandation est la EDW-8200 Système de découpe sans fin de boucle de fil de diamant. Il correspond aux spécifications de l'utilisateur pour la découpe de précision des plaquettes SiC.
| Métrique | Résultat atteint | Cible/Contexte |
|---|---|---|
| Perte de Kerf | 0,35-0,40mm | versus cible de 0,45 mm |
| Épaisseur minimale de la plaquette | 300μm atteint | Cible dépassée de 350µm |
| Rugosité de surface (Ra) | 0,22μm | Cible dépassée de 0,3µm |
| TVT | < 5μm | Sur tout le diamètre de 200 mm |
| Taux de rendement (premier passage) | 96.8% | - |
Fonderie japonaise de semi-conducteurs dans les dispositifs RF GaN-on-SiC pour stations de base 5 G. Leur gamme de produits comprend des HPA, des LNA et des MMIC intégrés pour les bandes sub-6 GHz et mmWave Les performances des dispositifs RF sont critiques, exigeant donc des substrats SiC de haute qualité avec un minimum de défauts cristallographiques.
La principale préoccupation du client concernait les dommages souterrains qui affectaient la qualité de la croissance épitaxiale du GaN :
Pour cela, nous avons utilisé le Scie à fil diamantée de précision DWS-4100P entièrement configuré avec des fonctionnalités spécialisées pour la réduction SSD.
| Métrique | Avant | Après |
|---|---|---|
| Profondeur des dommages souterrains | 40-55μm | 8-12μm (↓78%) |
| Arc de plaquette (4 pouces) | >30μm | <8μm (↓73%) |
| Précision de l'orientation du cristal | ±0,15° | ±0,05° (précision ↑3x) |
| Taux de défaillance des appareils RF | 4.2% | 1.1% (↓74%) |
| Densité des défauts GaN Epi | 5×105 cm−² | 8×104 cm−² (↓84%) |